Hessian free calculation of product of hessian matrix and vector for lithography optimization

WO2020043675 Art A1 5. März 2020

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V., ASML US, LLC 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020043675
Aktenzeichen: EP19762337
Anmeldetag: 27. August 2019
Veröffentlichung: 5. März 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/70G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: ASML NETHERLANDS B.V.
ASML US, LLC
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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