Gas supply determination method and plasma generation device

WO2020044427 Art A1 5. März 2020

Anmelder: FUJI CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020044427
Aktenzeichen: EP18931985
Anmeldetag: 28. August 2018
Veröffentlichung: 5. März 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H05H1/26G01F1/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJI CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fuji Machine Mfg.

Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chiryu, das Bestückungsautomaten und Fertigungssysteme für die Elektronikindustrie herstellt.

3.246 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

Vertreten von

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