Sputtering target capable of discharging steadily
WO2020044573
Art A1
5. März 2020
Anmelder: JX NIPPON MINING&METALS CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020044573
- Aktenzeichen
- EP18931616
- Anmeldetag
- 28. September 2018
- Veröffentlichung
- 5. März 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C23C14/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- JX NIPPON MINING&METALS CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
JX Nippon Mining & Metals
JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.
1.069 Patente in unserer Datenbank
Fachgebiete
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.