Actinic-ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, pattern formation method, and electronic device manufacture method

WO2020044771 Art A1 5. März 2020

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020044771
Aktenzeichen: EP19854697
Anmeldetag: 1. Juli 2019
Veröffentlichung: 5. März 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C309/07C07C309/09C07C381/12C09K3/00G03F7/038G03F7/039G03F7/20C07D235/18C07D307/00C07D307/33C07D327/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Farben, Klebstoffe & Brennstoffe Optik & Fototechnik Organische Chemie

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