Active-light-sensitive or radiation-sensitive resin composition, active-light-sensitive or radiation-sensitive film, pattern formation method, method for manufacturing electronic device, and compound

WO2020045534 Art A1 5. März 2020

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020045534
Aktenzeichen: EP19853480
Anmeldetag: 28. August 2019
Veröffentlichung: 5. März 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004G03F7/039G03F7/20C07C309/32C07C309/42C07C309/57

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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