Active light sensitive or radiation sensitive resin composition, active light sensitive or radiation sensitive film, pattern forming method, photomask, method for producing electronic device, and compound

WO2020045535 Art A1 5. März 2020

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020045535
Aktenzeichen: EP19854940
Anmeldetag: 28. August 2019
Veröffentlichung: 5. März 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C07C309/58C07C381/12G03F7/039G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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