Polishing system with capacitive shear sensor

WO2020046502 Art A1 5. März 2020

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2020046502
Aktenzeichen
EP19854832
Anmeldetag
25. Juli 2019
Veröffentlichung
5. März 2020
Rechtsraum
WO
IPC
B24B49/00H01L21/67H01L21/304H01L21/66
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
APPLIED MATERIALS, INC.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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