Post cmp cleaning compositions for ceria particles

WO2020046539 Art A1 5. März 2020

Anmelder: ENTEGRIS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2020046539
Aktenzeichen
EP19855451
Anmeldetag
2. August 2019
Veröffentlichung
5. März 2020
Rechtsraum
WO
IPC
C11D11/00C11D3/30C11D3/20C11D3/04C11D3/39C11D3/37C11D3/36C11D3/43
Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma
ENTEGRIS, INC.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Entegris

US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.

1.106 Patente in unserer Datenbank

Vertreten von

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