Curable composition for imprinting, pattern production method, semiconductor element production method, and cured article

WO2020050207 Art A1 12. März 2020

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020050207
Aktenzeichen: EP19857075
Anmeldetag: 2. September 2019
Veröffentlichung: 12. März 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C08F2/50B29C59/02C08F2/44C08F299/08H01L21/027

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: FUJIFILM CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Kunststoff- & Polymertechnik

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