Optical functional film, sputtering target, and method for manufacturing sputtering target

WO2020050421 Art A1 12. März 2020

Anmelder: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020050421
Aktenzeichen: EP19858282
Anmeldetag: 9. September 2019
Veröffentlichung: 12. März 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/06C04B35/56C04B35/58C23C14/34G02B5/08G06F3/041

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: MITSUBISHI MATERIALS CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Mitsubishi Materials

Japanisches Unternehmen der Mitsubishi-Gruppe mit Sitz in Tokio, tätig in der Verarbeitung von Metallen und Werkstoffen, unter anderem Kupfer, Zement, Hartmetallwerkzeuge und elektronische Materialien.

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Fachgebiete

Anorganische Chemie & Werkstoffe Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik Software & Datenverarbeitung

Vertreten von