A continuous thin film of a metal chalcogenide

WO2020050778 Art A1 12. März 2020

Anmelder: NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE 🇸🇬

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020050778
Aktenzeichen: EP19857239
Anmeldetag: 6. September 2019
Veröffentlichung: 12. März 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G11C11/22C01B19/04C01B17/00C23C14/24H01L27/115

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NATIONAL UNIVERSITY OF SINGAPORE
Land: 🇸🇬 Singapur

🇸🇬 National University of Singapore

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Anorganische Chemie & Werkstoffe Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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