Formulations for advanced polishing pads
WO2020050932
Art A1
12. März 2020
Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020050932
- Aktenzeichen
- EP19857476
- Anmeldetag
- 1. August 2019
- Veröffentlichung
- 12. März 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- C08F265/06C08F220/36C08F220/10C08F2/48C08J9/14B24B37/24B24D3/32C08F220/34
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- APPLIED MATERIALS, INC.
- Land
- 🇺🇸 USA
🇺🇸
Applied Materials
US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.
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