Method and apparatus for monitoring beam profile and power

WO2020052943 Art A1 19. März 2020

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020052943
Aktenzeichen: EP19759347
Anmeldetag: 26. August 2019
Veröffentlichung: 19. März 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/22H01J37/02G01J1/42

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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