Phase shift mask blank, phase shift mask, light exposure method and method for producing device

WO2020054131 Art A1 19. März 2020

Anmelder: NIKON CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020054131
Aktenzeichen: EP19860326
Anmeldetag: 20. Mai 2019
Veröffentlichung: 19. März 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/32C23C14/06G03F1/54

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NIKON CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nikon

Japanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Tokio. Nikon entwickelt optische Geräte und Präzisionstechnik, darunter Kameras, Objektive, Mikroskope sowie Lithografie- und Messsysteme für die Halbleiterfertigung.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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