Method of pretreating an oscillation crystal for measuring a deposition rate, deposition rate measurement device, evaporation source and deposition apparatus

WO2020057737 Art A1 26. März 2020

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020057737
Aktenzeichen: EP18773425
Anmeldetag: 19. September 2018
Veröffentlichung: 26. März 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/24C23C14/54G01N29/02

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Metallurgie & Oberflächentechnik

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