Optical system, metrology apparatus and associated method

WO2020057870 Art A1 26. März 2020

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020057870
Aktenzeichen: EP19753372
Anmeldetag: 14. August 2019
Veröffentlichung: 26. März 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G01N21/88G01N21/95G02B17/02G01N21/956

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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