Substrate processing method and substrate processing device
WO2020059229
Art A1
26. März 2020
Anmelder: SCREEN HOLDINGS CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020059229
- Aktenzeichen
- EP19862179
- Anmeldetag
- 20. Juni 2019
- Veröffentlichung
- 26. März 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01L21/027B05D1/36B05D1/40B05D3/00B05D3/10B05D5/00B05D7/24B05C11/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
SCREEN Holdings
Japanischer Technologiekonzern. SCREEN Holdings stellt Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie her, insbesondere Wafer-Reinigungs- und Beschichtungssysteme, sowie Druck- und Bildverarbeitungstechnik.
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