Process quality verification method and apparatus using quantitative statistical values through grain boundary scanning electron microscope image treatment of low-temperature poly-silicon thin film transistor active layer

WO2020060226 Art A1 26. März 2020

Anmelder: KOREA UNIVERSITY RESEARCH AND BUSINESS FOUNDATION 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020060226
Aktenzeichen: EP19863367
Anmeldetag: 19. September 2019
Veröffentlichung: 26. März 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G01N21/88H01L21/66H01L21/67G01N23/2251G01B15/04G06T7/00

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: KOREA UNIVERSITY RESEARCH AND BUSINESS FOUNDATION
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 Korea University Research and Business Foundation

Südkoreanische Einrichtung, die Forschungsprojekte und Technologietransfer der Korea University verwaltet, patentiert Ergebnisse aus universitärer Forschung in Naturwissenschaften, Technik und Medizin und überführt sie in Anwendungen.

1.776 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Software & Datenverarbeitung

Vertreten von