Apparatus for and method of providing high precision delays in a lithography system

WO2020064194 Art A1 2. April 2020

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020064194
Aktenzeichen: EP19753055
Anmeldetag: 12. August 2019
Veröffentlichung: 2. April 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01S3/097H01S3/22H01S3/13H01S3/134H01S3/225

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

5.380 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von