Thermal field emission electron source and electron beam application device

WO2020065703 Art A1 2. April 2020

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020065703
Aktenzeichen: EP18935877
Anmeldetag: 25. September 2018
Veröffentlichung: 2. April 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/06

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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