Photosensitive resin composition, pattern cured film and manufacturing method therefor, semiconductor element, and electronic device
WO2020065860
Art A1
2. April 2020
Anmelder: SHOWA DENKO MATERIALS CO., LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020065860
- Aktenzeichen
- EP18935575
- Anmeldetag
- 27. September 2018
- Veröffentlichung
- 2. April 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- G03F7/023C08L33/00C08L61/04H01L21/312
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- SHOWA DENKO MATERIALS CO., LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Showa Denko Materials
Showa Denko Materials, vormals Hitachi Chemical, ist ein japanischer Hersteller elektronischer und chemischer Materialien und gehört inzwischen zum Resonac-Konzern. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Kunststoff- und Polymertechnik, ergänzt durch Klebstoffe und Fertigungstechnik. Anmeldungen stammen aus dem Zeitraum 2010 bis 2022.
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