Photosensitive resin composition, pattern cured film and manufacturing method therefor, semiconductor element, and electronic device

WO2020065860 Art A1 2. April 2020

Anmelder: SHOWA DENKO MATERIALS CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2020065860
Aktenzeichen
EP18935575
Anmeldetag
27. September 2018
Veröffentlichung
2. April 2020
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/023C08L33/00C08L61/04H01L21/312
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
SHOWA DENKO MATERIALS CO., LTD.
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Showa Denko Materials

Showa Denko Materials, vormals Hitachi Chemical, ist ein japanischer Hersteller elektronischer und chemischer Materialien und gehört inzwischen zum Resonac-Konzern. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Kunststoff- und Polymertechnik, ergänzt durch Klebstoffe und Fertigungstechnik. Anmeldungen stammen aus dem Zeitraum 2010 bis 2022.

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