Sputtering target and powder for producing sputtering target

WO2020066114 Art A1 2. April 2020

Anmelder: JX NIPPON MINING&METALS CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020066114
Aktenzeichen: EP19867590
Anmeldetag: 16. Mai 2019
Veröffentlichung: 2. April 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34B22F1/00C22C1/05C22C5/04G11B5/738G11B5/84

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JX NIPPON MINING&METALS CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JX Nippon Mining & Metals

JX Nippon Mining & Metals Corporation ist ein japanisches Unternehmen der Nichteisenmetallindustrie, das Kupfer, Halbleitermaterialien und Metallverarbeitung herstellt, Teil der ENEOS-Gruppe.

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Fachgebiete

Akustik, Musik & Datenspeicherung Metallurgie & Oberflächentechnik Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

Vertreten von