Pattern shape evaluation device, pattern shape evaluation system, and pattern shape evaluation method

WO2020066128 Art A1 2. April 2020

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020066128
Aktenzeichen: EP19866821
Anmeldetag: 29. Mai 2019
Veröffentlichung: 2. April 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G01B15/04G01N23/2251H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik

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