Photosensitive resin composition, cured film, layered product, method for producing cured film, semiconductor device, and thermobase generator

WO2020066435 Art A1 2. April 2020

Anmelder: FUJIFILM CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2020066435
Aktenzeichen
EP19868145
Anmeldetag
28. August 2019
Veröffentlichung
2. April 2020
Rechtsraum
WO
IPC
G03F7/004C08G73/12C08G73/22G03F7/037G03F7/038
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
FUJIFILM CORPORATION
Land
🇯🇵 Japan
🇯🇵 Fujifilm

Japanischer Konzern, hervorgegangen aus der Fotofilmherstellung, heute aktiv in Bildgebung, Dokumentenlösungen, Materialwissenschaften sowie Diagnostik und Arzneimittelherstellung.

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