Mask blank, transfer mask, and semiconductor-device manufacturing method

WO2020066590 Art A1 2. April 2020

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020066590
Aktenzeichen: EP19866495
Anmeldetag: 10. September 2019
Veröffentlichung: 2. April 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/32C23C14/04G03F1/34G03F1/54G03F1/80H01L21/3065

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

701 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik Optik & Fototechnik

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