Photosensitive resin composition, method for forming resist pattern, and method for manufacturing plated shaped body

WO2020066633 Art A1 2. April 2020

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020066633
Aktenzeichen: EP19866069
Anmeldetag: 11. September 2019
Veröffentlichung: 2. April 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/004C08F2/44G03F7/031G03F7/20G03F7/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Kunststoff- & Polymertechnik Optik & Fototechnik

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