Method for processing semiconductor substrate

WO2020066669 Art A1 2. April 2020

Anmelder: JSR CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020066669
Aktenzeichen: EP19864010
Anmeldetag: 12. September 2019
Veröffentlichung: 2. April 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/3065G03F7/40G03F7/42H01L21/027H01L21/306H01L21/312

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: JSR CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 JSR Corporation

JSR Corporation ist ein japanisches Chemieunternehmen, das synthetische Kautschuke sowie Materialien für die Halbleiter- und Displayindustrie herstellt.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Optik & Fototechnik

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