Vacuum Pump Protection Against Deposition Byproduct Buildup

WO2020069206 Art A1 2. April 2020

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020069206
Aktenzeichen: EP19866692
Anmeldetag: 26. September 2019
Veröffentlichung: 2. April 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/67F04D19/04

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

2.725 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Energie- & Antriebstechnik (Kraftmaschinen) Halbleiter & Elektrische Bauelemente

Vertreten von