Removing metal contamination from surfaces of a processing chamber

WO2020072762 Art A1 9. April 2020

Anmelder: LAM RESEARCH CORPORATION 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020072762
Aktenzeichen: EP19869764
Anmeldetag: 3. Oktober 2019
Veröffentlichung: 9. April 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C21C5/44C21C5/46

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LAM RESEARCH CORPORATION
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Lam Research

US-amerikanischer Hersteller von Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Fremont, Kalifornien, spezialisiert auf Ätz- und Beschichtungssysteme (Deposition) für die Chipproduktion.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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