Method for high numerical aperture thru-slit source mask optimization

WO2020074356 Art A1 16. April 2020

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020074356
Aktenzeichen: EP19789877
Anmeldetag: 3. Oktober 2019
Veröffentlichung: 16. April 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/70G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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