Charged particle beam system
WO2020075241
Art A1
16. April 2020
Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020075241
- Aktenzeichen
- EP18936301
- Anmeldetag
- 10. Oktober 2018
- Veröffentlichung
- 16. April 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H01J37/21H01J37/22
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Hitachi High-Tech Corporation
Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.
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