Compound, photoresist composition comprising same, photoresist pattern comprising same, and method for manufacturing photoresist pattern

WO2020076123 Art A1 16. April 2020

Anmelder: LG CHEM, LTD. 🇰🇷

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020076123
Aktenzeichen: EP19871675
Anmeldetag: 11. Oktober 2019
Veröffentlichung: 16. April 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C07D237/24G03F7/004G03F7/032G03F7/20G03F7/26

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: LG CHEM, LTD.
Land: 🇰🇷 Südkorea

🇰🇷 LG Chem

Südkoreanisches Chemieunternehmen, das Batteriematerialien, Kunststoffe, petrochemische Produkte und pharmazeutische Wirkstoffe herstellt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik Organische Chemie

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