Deposition apparatus, system and method for depositing a material on a substrate

WO2020078557 Art A1 23. April 2020

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020078557
Aktenzeichen: EP18795333
Anmeldetag: 18. Oktober 2018
Veröffentlichung: 23. April 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/54C23C14/56C23C16/46C23C16/511C23C16/54H01J37/32H01L31/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: APPLIED MATERIALS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

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