System and method for facilitating chemical mechanical polishing

WO2020078729 Art A1 23. April 2020

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020078729
Aktenzeichen: EP19786510
Anmeldetag: 3. Oktober 2019
Veröffentlichung: 23. April 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01L21/306H01L21/321B24B37/00B24B49/00B24B49/04B24B49/12B24B49/16H01L21/66

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Werkzeug-, Fertigungs- & Drucktechnik

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