Method to create the ideal source spectra with source and mask optimization

WO2020078844 Art A1 23. April 2020

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V., CYMER, LLC 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020078844
Aktenzeichen: EP19790467
Anmeldetag: 11. Oktober 2019
Veröffentlichung: 23. April 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firmen: ASML NETHERLANDS B.V.
CYMER, LLC
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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🇺🇸 Cymer

Cymer ist ein US-amerikanisches Unternehmen für Lichtquellen zur Halbleiterlithografie, das zum ASML-Konzern gehört. Das Patentportfolio konzentriert sich sehr stark auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie Optik und Fototechnik. Anmeldungen laufen kontinuierlich seit dem Jahr 2000.

399 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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