Photosensitive Insulating Film Composition

WO2020080207 Art A1 23. April 2020

Anmelder: NISSAN CHEMICAL CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020080207
Aktenzeichen: EP19873644
Anmeldetag: 9. Oktober 2019
Veröffentlichung: 23. April 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/027G03F7/004G03F7/20G03F7/40

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: NISSAN CHEMICAL CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Nissan Chemical Corporation

Japanisches Chemieunternehmen mit Sitz in Tokio, das agrochemische Wirkstoffe, elektronische Materialien sowie Feinchemikalien für die Halbleiterindustrie herstellt. Das Unternehmen wurde 1887 gegründet und hieß bis 2015 Nissan Chemical Industries.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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