Method for adusting a first element of a lithography apparatus towards a second element of a lithography apparatus by a tunable spacer

WO2020083914 Art A1 30. April 2020

Anmelder: CARL ZEISS SMT GMBH 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020083914
Aktenzeichen: EP19795493
Anmeldetag: 22. Oktober 2019
Veröffentlichung: 30. April 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20G02B7/02G02B7/182G02B7/198

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: CARL ZEISS SMT GMBH
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Carl Zeiss SMT

Deutsches Unternehmen der Carl Zeiss Gruppe mit Sitz in Oberkochen, das optische Systeme und Lithographieoptiken für die Halbleiterindustrie entwickelt.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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