Charged particle beam device, autofocus processing method for charged particle beam device, and detector

WO2020084729 Art A1 30. April 2020

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020084729
Aktenzeichen: EP18937588
Anmeldetag: 25. Oktober 2018
Veröffentlichung: 30. April 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/20H01J37/18H01J37/22H01J37/244H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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