Gas-free method and gas-free facility
WO2020085329
Art A1
30. April 2020
Anmelder: MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD. 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020085329
- Aktenzeichen
- EP19875507
- Anmeldetag
- 21. Oktober 2019
- Veröffentlichung
- 30. April 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- B63B25/08B63B25/16B63J2/08F17C13/00
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- MITSUBISHI HEAVY INDUSTRIES, LTD.
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Mitsubishi Heavy Industries
Japanischer Industriekonzern, der in Bereichen wie Energieerzeugung, Luft- und Raumfahrt, Schiffbau, Maschinenbau und Klimatechnik tätig ist und ein breites Spektrum an Industrieanlagen und -maschinen herstellt.
7.717 Patente in unserer Datenbank
Vertreten von
Kein Vertreter erfasst.