Apparatus for and method of reducing contamination from source material in an euv light source

WO2020086478 Art A1 30. April 2020

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020086478
Aktenzeichen: EP19802363
Anmeldetag: 21. Oktober 2019
Veröffentlichung: 30. April 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H05G2/00G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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