Graded dimple height pattern on heater for lower backside damage and low chucking voltage

WO2020086492 Art A1 30. April 2020

Anmelder: APPLIED MATERIALS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.
WO2020086492
Aktenzeichen
EP19877092
Anmeldetag
21. Oktober 2019
Veröffentlichung
30. April 2020
Rechtsraum
WO
IPC
H01L21/683H01L21/67H02N13/00B23Q3/15
Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma
APPLIED MATERIALS, INC.
Land
🇺🇸 USA
🇺🇸 Applied Materials

US-amerikanisches Technologieunternehmen mit Sitz in Santa Clara, Kalifornien. Applied Materials entwickelt Fertigungsanlagen und Prozesstechnologien für die Halbleiter-, Display- und Solarindustrie, unter anderem für Beschichtung, Ätzen und Materialabscheidung.

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