A method for controlling the dose profile adjustment of a lithographic apparatus

WO2020088835 Art A1 7. Mai 2020

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020088835
Aktenzeichen: EP19779766
Anmeldetag: 18. September 2019
Veröffentlichung: 7. Mai 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20H05G2/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Elektronik & Schaltungstechnik Optik & Fototechnik

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