Yttrium sputtering target and film-forming method using same

WO2020090977 Art A1 7. Mai 2020

Anmelder: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA, TOSHIBA MATERIALS CO., LTD. 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020090977
Aktenzeichen: EP19879416
Anmeldetag: 31. Oktober 2019
Veröffentlichung: 7. Mai 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C14/34C23C14/08

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firmen: KABUSHIKI KAISHA TOSHIBA
TOSHIBA MATERIALS CO., LTD.
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Toshiba

Japanischer Konzern, der Elektronik, Halbleiter, Energie- und Infrastrukturtechnik sowie Industrieanlagen entwickelt und herstellt.

13.647 Patente in unserer Datenbank

🇯🇵 Toshiba Materials

Toshiba Materials ist eine japanische Tochtergesellschaft des Toshiba-Konzerns, spezialisiert auf keramische und magnetische Werkstoffe. Das Patentportfolio konzentriert sich auf Halbleiter und elektrische Bauelemente sowie anorganische Chemie und Werkstoffe, ergänzt um Metallurgie. Anmeldungen erstrecken sich über die Jahre 2004 bis 2024.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik

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