Apparatus for and method of measuring distortion of a patterning device in a photolithographic apparatus

WO2020094369 Art A1 14. Mai 2020

Anmelder: ASML HOLDING N.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020094369
Aktenzeichen: EP19795479
Anmeldetag: 21. Oktober 2019
Veröffentlichung: 14. Mai 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F7/20

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML HOLDING N.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Optik & Fototechnik

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