Systems and methods for thermally conditioning a wafer in a charged particle beam apparatus

WO2020094371 Art A1 14. Mai 2020

Anmelder: ASML NETHERLANDS B.V. 🇳🇱

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020094371
Aktenzeichen: EP19791225
Anmeldetag: 21. Oktober 2019
Veröffentlichung: 14. Mai 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/28H01J37/22

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ASML NETHERLANDS B.V.
Land: 🇳🇱 Niederlande

🇳🇱 ASML

Niederländisches Unternehmen, das Lithografiesysteme und weitere Anlagen für die Halbleiterfertigung entwickelt und herstellt, zentral für die Chipindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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