Adjusting method of charged particle beam device and charged particle beam device system

WO2020095531 Art A1 14. Mai 2020

Anmelder: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020095531
Aktenzeichen: EP19881676
Anmeldetag: 9. September 2019
Veröffentlichung: 14. Mai 2020
Rechtsraum: WO
IPC: H01J37/22H01J37/24H01J37/28

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HITACHI HIGH-TECH CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hitachi High-Tech Corporation

Japanisches Unternehmen der Hitachi-Gruppe, spezialisiert auf Analysegeräte, medizinische Diagnostik und Fertigungsanlagen für die Halbleiterindustrie.

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Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente

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