Multilayer reflection film-provided substrate, reflective mask blank, reflective mask producing method, and semiconductor device producing method

WO2020095959 Art A1 14. Mai 2020

Anmelder: HOYA CORPORATION 🇯🇵

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020095959
Aktenzeichen: EP19881619
Anmeldetag: 6. November 2019
Veröffentlichung: 14. Mai 2020
Rechtsraum: WO
IPC: G03F1/24G03F1/84G03F7/20G01N21/956

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: HOYA CORPORATION
Land: 🇯🇵 Japan

🇯🇵 Hoya

Japanischer Konzern mit Sitz in Tokio, aktiv in den Bereichen optische Gläser, Halbleiterfotomasken und medizinische Endoskopie- sowie Augenheilkundeprodukte.

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Fachgebiete

Mess-, Prüf- & Zeitmesstechnik Optik & Fototechnik

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