Chemical vapor deposition processes using ruthenium precursor and reducing gas

WO2020096976 Art A1 14. Mai 2020

Anmelder: ENTEGRIS, INC. 🇺🇸

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020096976
Aktenzeichen: EP19882349
Anmeldetag: 4. November 2019
Veröffentlichung: 14. Mai 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/18C07F15/00

Offizieller Volltext

Abstract

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Anmelder

Firma: ENTEGRIS, INC.
Land: 🇺🇸 USA

🇺🇸 Entegris

US-amerikanischer Hersteller von Spezialmaterialien und Filtrationslösungen für die Halbleiterindustrie mit Sitz in Massachusetts.

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Fachgebiete

Metallurgie & Oberflächentechnik Organische Chemie

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