Gasauslassvorrichtung eines Cvd-Reaktors

WO2020099541 Art A1 22. Mai 2020

Anmelder: AIXTRON SE 🇩🇪

Details

Veröffentlichungs-Nr.: WO2020099541
Aktenzeichen: EP19805239
Anmeldetag: 14. November 2019
Veröffentlichung: 22. Mai 2020
Rechtsraum: WO
IPC: C23C16/44C30B25/12C23C16/458C23C16/455H01L21/687

Offizieller Volltext

Abstract

Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.

Anmelder

Firma: AIXTRON SE
Land: 🇩🇪 Deutschland

🇩🇪 Aixtron

Aixtron ist ein deutscher Hersteller von Depositionsanlagen für die Halbleiterindustrie. Der Patentbestand konzentriert sich auf Metallurgie und Oberflächentechnik sowie Halbleiterbauelemente, ergänzt durch Verfahrens- und Messtechnik. Die Anmeldungen aus 2000 bis 2025 betreffen unter anderem die Reinigung und den Betrieb von CVD-Reaktoren.

303 Patente in unserer Datenbank

Fachgebiete

Halbleiter & Elektrische Bauelemente Metallurgie & Oberflächentechnik

Vertreten von