Plasma irradiation device
WO2020100252
Art A1
22. Mai 2020
Anmelder: FUJI CORPORATION 🇯🇵
Details
- Veröffentlichungs-Nr.
- WO2020100252
- Aktenzeichen
- EP18940236
- Anmeldetag
- 15. November 2018
- Veröffentlichung
- 22. Mai 2020
- Rechtsraum
- WO
- IPC
- H05H1/24B01J19/08
Abstract
Für dieses Patent liegt uns kein Abstract vor.
Anmelder
- Firma
- FUJI CORPORATION
- Land
- 🇯🇵 Japan
🇯🇵
Fuji Machine Mfg.
Japanisches Unternehmen mit Sitz in Chiryu, das Bestückungsautomaten und Fertigungssysteme für die Elektronikindustrie herstellt.
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Vertreten von
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